光刻機這玩意兒融金牛，在芯片制造里頭可是核心中的核心，它負責在硅片上畫(huà)出那些細如發(fā)絲的電路圖案，沒(méi)它就沒(méi)法做先進(jìn)芯片。荷蘭的ASML公司基本上壟斷了高端極紫外線(xiàn)光刻機市場(chǎng)，這種設備能搞定5納米以下的制程，全球大廠(chǎng)像臺積電、三星都得靠它。
中國作為芯片消費大國，每年吞掉全球一半以上的芯片產(chǎn)量，但高端設備一直得從國外買(mǎi)，尤其是ASML的貨。2018年美國開(kāi)始搞出口管制，禁止ASML賣(mài)極紫外線(xiàn)機器給中國企業(yè)，理由是技術(shù)安全啥的。這事兒從那時(shí)候就拉開(kāi)序幕，中國企業(yè)沒(méi)法拿到最頂尖的工具，只能自己想辦法搞研發(fā)。
從2019年起，中國就砸了大筆錢(qián)進(jìn)半導體領(lǐng)域，國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金二期規模超2000億元，專(zhuān)門(mén)支持光刻機零部件的開(kāi)發(fā)?；鸱纸o好幾家機構，重點(diǎn)攻鏡頭系統、光源模塊這些關(guān)鍵部件。那時(shí)候，研究團隊就開(kāi)始拆解進(jìn)口的光刻機，分析內部結構，組建跨學(xué)科專(zhuān)家組，對光源控制和曝光平臺做針對性實(shí)驗。
2020年，中芯國際搞定了14納米制程的批量生產(chǎn)，用的是從ASML買(mǎi)的深紫外線(xiàn)光刻機。他們買(mǎi)了好幾臺，優(yōu)化生產(chǎn)線(xiàn)，避免供應鏈斷檔影響產(chǎn)量。工程師們調參數，把良率提到85%以上，順便記錄設備數據，為后來(lái)逆向工程攢經(jīng)驗。同年，中國科學(xué)院的研究所啟動(dòng)納米級光刻測試，用激光方法測圖案分辨率。
展開(kāi)剩余81%2021年，上海微電子裝備公司推出90納米光刻機，主要用于中端芯片，像顯示面板和傳感器。公司在測試時(shí)碰到精度問(wèn)題，通過(guò)改軟件算法搞定，確保機器跑得穩。美國那邊加強審查，部分深紫外線(xiàn)機器對華出口延期，中國企業(yè)只好維護庫存設備，多囤備件。2022年，美國把禁令范圍擴大，荷蘭政府也跟進(jìn)，ASML對華銷(xiāo)售占比下滑，但中國客戶(hù)下單更猛，囤積成熟制程的機器。中國光刻膠供應商開(kāi)始自產(chǎn)氬氟材料，減少對日本的依賴(lài)。實(shí)驗室里模擬曝光環(huán)境，驗證材料耐用性。
2023年1月，中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所公布22納米光刻機樣機，用干涉技術(shù)實(shí)現大面積圖案刻畫(huà)。工程師們跑了好多次試驗，調光束路徑，分辨率達標。同月，ASML時(shí)任CEO彼得·溫尼克在訪(fǎng)談中談出口管制，說(shuō)這會(huì )讓中國加大本土技術(shù)開(kāi)發(fā)。4月，他又說(shuō)中國追求設備自主是合邏輯的，但地緣因素可能拖慢整個(gè)行業(yè)進(jìn)展。
他強調全球供應鏈連得緊，隔離帶來(lái)不確定性。9月，溫尼克重申切斷中國市場(chǎng)沒(méi)用，只會(huì )刺激中國創(chuàng )新加速。那年，中國企業(yè)通富微電用層疊技術(shù)搞5納米級封裝，不是完整光刻機，但提升了芯片密度。公司投錢(qián)建線(xiàn)，測疊層精度。南大光電完成氬氟光刻膠國產(chǎn)化，通過(guò)認證，供多家芯片廠(chǎng)。
話(huà)說(shuō)ASML的總裁們對中國的自研態(tài)度挺復雜的。溫尼克在2023年8月的一次公開(kāi)場(chǎng)合直言，中國開(kāi)發(fā)本土光刻機是破壞性舉動(dòng)融金牛，會(huì )沖擊全球芯片供應鏈，造成混亂。他覺(jué)得這源于出口限制，可能導致行業(yè)分裂。中國這邊，從2023到2025年有不少進(jìn)展，比如22納米樣機和電子束設備，顯示技術(shù)積累在堆。
溫尼克的言論反映出ASML對市場(chǎng)份額的在意，中國企業(yè)靠基金支持和逆向研究推設備國產(chǎn)化。其實(shí)呢，ASML背后有美國資本的影響，他們的表態(tài)有時(shí)像在配合政策。溫尼克說(shuō)過(guò)隔離中國是無(wú)望的，會(huì )迫使中國 ramp up 創(chuàng )新，但也警告說(shuō)這會(huì )破壞產(chǎn)業(yè)鏈平衡。
2024年，中國從ASML進(jìn)口深紫外線(xiàn)設備數量猛增，占公司銷(xiāo)售近五成，用在28納米以上制程。ASML財報說(shuō)中國需求強，推動(dòng)營(yíng)收。但4月24日，溫尼克退休，新CEO克里斯托夫·富凱接手，繼續執行出口合規。7月，溫尼克退休前訪(fǎng)談，說(shuō)美中芯片爭端是意識形態(tài)分歧，中國在成熟芯片生產(chǎn)里頭關(guān)鍵。10月，ASML股價(jià)因訂單波動(dòng)跌，中國轉向本土供應鏈影響預期。12月，美國更新出口規則，加計量和軟件限制，ASML說(shuō)2025年影響可控。
進(jìn)到2025年，中國企業(yè)試逆向分析ASML設備，有一例機器壞了，得求維修，暴露復制難。3月，ASML在北京開(kāi)新維修中心，盡管管制緊。5月，美國關(guān)稅不確定性讓ASML市值蒸發(fā)超1300億美元。7月，中國出第三期集成電路基金，規模480億美元，支持半導體投資。
8月，有傳聞華為參與極紫外線(xiàn)系統開(kāi)發(fā)，用電子束技術(shù)。9月，中芯國際測試首臺國產(chǎn)深紫外線(xiàn)機器，做初步驗證。同月，中國發(fā)布商用電子束光刻機，對準先進(jìn)制程。10月，中國實(shí)施稀土出口管制，要許可證，ASML說(shuō)已儲備材料應付。10月，中國研究者在Nature期刊發(fā)論文，詳述光刻材料缺陷控制突破，提高產(chǎn)量穩定性。
富凱作為新CEO，在2024年底和2025年多次表態(tài)，說(shuō)中國芯片業(yè)落后10到15年，主要因拿不到極紫外線(xiàn)設備。他估計中國自研極紫外線(xiàn)得花10到15年，甚至更長(cháng)，因為ASML花了20年建生態(tài)。
但他也承認中國在深紫外線(xiàn)領(lǐng)域進(jìn)步快，可能復制ASML的DUV機器如Twinscan NXT:2000i，在幾年內搞定。2025年第一季度，中國占ASML系統銷(xiāo)售27%，穩穩的，其他地區下滑。富凱說(shuō)中國對主流芯片需求韌性強，比預期好。中國芯片廠(chǎng)搶ASML老款DUV機器，避開(kāi)出口管制，訂單穩。
但富凱不信中國馬上搞出極紫外線(xiàn)，說(shuō)流傳的照片更像研究，不是產(chǎn)品開(kāi)發(fā)。傳聞?wù)f(shuō)中國EUV機器在華為東莞廠(chǎng)測試，2025第三季度試產(chǎn)，2026年量產(chǎn)。用激光誘導放電等離子技術(shù)，可能比ASML的激光產(chǎn)生等離子耗能低，但一樣能出13.5納米輻射。
富凱覺(jué)得這夸張，中國要追上得等好多年。ASML準備好應對中國稀土管制，CFO說(shuō)長(cháng)交貨期讓他們有庫存，支持短期需求。但預計2026年中國客戶(hù)需求降，占營(yíng)收20%以下，因VEU許可證撤銷(xiāo)和本地芯片廠(chǎng)需求軟。
這些事兒連起來(lái)看，就是光刻機領(lǐng)域的技術(shù)拉鋸戰。中國逐步縮差距，ASML面臨市場(chǎng)調整壓力。全球半導體市場(chǎng)重組，中國芯片自給率升，2025年進(jìn)口減。ASML地位穩，但利潤擠壓大。中國持續投錢(qián)，優(yōu)化成本產(chǎn)量，確保鏈獨立。行業(yè)得應對地緣風(fēng)險，供應鏈更分散。
從ASML態(tài)度變化看，早年他們說(shuō)給圖紙中國也造不出，2022年承認中國會(huì )試，2023年指責自研破壞產(chǎn)業(yè)鏈，2023年又說(shuō)進(jìn)中國市場(chǎng)必要，2024年說(shuō)光刻機沒(méi)技術(shù)門(mén)檻，2025年擔心稀土斷供。X上帖子列這些，顯示ASML從自信到警惕。溫尼克反對出口限制，說(shuō)會(huì )激勵中國自研EUV。富凱延續這觀(guān)點(diǎn)，但強調中國落后多。
中國自研不是空談，2025年有新前端設備測試，帶浸潤系統，能做14nm、7nm芯片，跟ASML浸潤DUV類(lèi)似。Canon用納米壓印技術(shù)挑戰，但不針對EUV。華為可能用LDP技術(shù)省能，削弱ASML優(yōu)勢。中國企業(yè)像SMIC用DUV做7nm，但成本高，沒(méi)EUV沒(méi)法高效追TSMC。
總的，中國自研光刻機是回應管制，ASML總裁叫破壞產(chǎn)業(yè)鏈，底氣不足。行業(yè)需平衡，合作勝對抗。中國投巨資，成果漸現，ASML得適應新現實(shí)。
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